CVD方法对涂布机生产厂家在涂层上的研究和优化
信息来源: | 发布日期:
2016-12-14
| 浏览量:
关键词:涂布机生产厂家CVD方法优化
在20世纪初,德国化学家Griesheim-Elektron以及俄罗斯化学家Ivan Ostromislensky和Fritz Klatte都试图在商业产品中使用CVD,但是加工刚性,有时是脆性聚合物的困难阻碍了他们的努力。
一些科学家经过不断的综合努力已经对这种CVD方法进行了广泛的研究和优化,在具有前体递送模块的独特系统上开发,所述前体递送模块能够递送适合于2D材料生长的宽范围的液体/固体/金属有机前体。在包括ALD氧化铝(Al2O3和SiO2)的一系列衬底上提供生长,该系统能够沉积其他2D过渡金属二硫属化物(TMDCs),如WS2,MoSe2等。
“等离子体处理系统的2D材料处理能力进入一个新阶段,”这种工艺开发及其成熟的结果对所有的涂布机厂家都可以说是一件非常令人兴奋的事,“等离子体技术战略营销和业务发展总监说道,”分析高质量的单层,用AFM显示所得的平滑和均匀的膜。我们预计,这种2D材料增长的发展将促进下一代纳米电子器件。
下一条:VCM材料涂布机的核心优势
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